ساخت دستگاه لایه بردار با کاربرد در صنایع خودرو

محققان یکی از شرکت‌های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران، در حالی دستگاه لایه‌برداری با کاربرد در صنایع خودروسازی و فضایی را بومی سازی کردند که این دستگاه در لیست تحریم قرار گرفته بود.

یکی از شرکت‌های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران فعالیت خود را از سال ۱۳۸۹ در حوزه فناوری پلاسما آغاز کرد. طراحی و ساخت دستگاه لایه نشانی شیمیایی بخار توسط پلاسمای جریان مستقیم (DC-PECVD) برای استفاده در تحقیق، توسعه و ساخت فیلم‌های نازک، و همچنین دستگاه زدایش عمودی سیلیکون (Deep Reactive Ion Etch) به عنوا ن ابزاری برای ایجاد ساختارهای نانویی از محصولات دانش بنیان این شرکت است.

لایه‌نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از مهمترین روش‌های پوشش‌دهی است که امروزه کاربردهای آن در حوزه صنعتی و تحقیقاتی بسیار گسترده شده است. لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار پلاسمایی (PECVD) هم نوعی فرآیند CVD است که حضور محیط پلاسما همه فرآیندهای CVD را تحت تأثیر قرار می‌دهد و سرعت و بازدهی انجام واکنش‌های مرتبط را در دماهای به نسبت پایین‌تر (نسبت به استفاده از فرآیند CVD بدون حضور پلاسما) را افزایش و ارتقا می‌دهد. این روش بیشتر برای تولید نانولوله‌های کربنی استفاده می‌شود.

علی اخوان فراهانی مدیر عامل این شرکت در این خصوص گفت:  دستگاه  زدایش عمودی سیلیکون از جمله تجهیزات دارای فناوری‌ های‌تک است که در ساخت شتاب‌سنج‌ها و ادوات میکرومتری صنایع الکترونیک کاربرد دارد. از جمله صنایع خودرو سازی از این دستگاه در ساخت شتاب‌سنج‌های به کار رفته  بر روی ایر بگ خودرو استفاده می‌کنند.

 اخوان، ژیروسکوپ‌های جهت یاب ماهواره بر را از دیگر کاربردهای این دستگاه نام برد و یادآور شد: نمونه داخلی ساخته شده یک هشتم نمونه مشابه خارجی قیمت دارد. قیمت نمونه خارجی بیش از ۴۰۰ هزار دلار برآورد شده است.

وی با ذکر اینکه این دستگاه از جمله مواردی بود که در همان ابتدای تحریم‌ها، فروش آن به ایران ممنوع شد، یادآوری کرد: همین موضوع انگیزه‌ای شد تا با استفاده از نیروهای جوان  و متخصص داخلی نسبت به ساخت و  توسعه آن در داخل، اقدام کنیم.

ایسنا